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离子溅射仪2

 

 

设备名称

离子溅射仪2

设备型号

E-1045

设备管理员

陈晶晶

设备规格

E-1045

生产/供应商

日立

国别

日本

设备金额

10万元

购置年份

2011 

现有功能与服务范围

喷制扫描电镜样品的导电薄膜

主要技术指标

操作真空:1 x 10-2 mbar 1 x 10-4 mbar 溅射电流:0-150mA 沉积速率:0-20nm/ 溅射定时: 0-4 分钟 涡轮分子泵:60 litres/Second (极限真空 1x10-8 mbar) Services - Argon - Nominal 10 psi Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 真空泵:No 2. complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr 电源:230/50Hz(包括泵最大电流为6安培)

 

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