离子溅射仪

 

 

设备名称	离子溅射仪1
设备型号	IB-3
设备管理员	王展
设备规格	IB-3
生产/供应商	GIKO	国别	日本
设备金额	20万	购置年份	1999 年
现有功能与服务范围	喷制扫描电镜样品的导电薄膜
责任单位	化学与环境工程学院	设备存放地点	1号实验楼101-3实验室
主要技术指标	镀膜（Au）速率0-20nm/min, 精细镀层（Au粒子<1nm），溅射电流：0-150mA，操作真空1×10-2到-1×10-4m bar